設(shè)備特點：

1、廣泛用于真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境；

2、該設(shè)備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠，溫場均勻，結(jié)構(gòu)合理；

3、可選用液晶屏觸摸界面，詳細(xì)的界面操作提示，使得設(shè)備的操作異常簡單、方便；

4、設(shè)備的各項技術(shù)參數(shù)，溫度曲線更是一目了然，使得整個實驗的運行狀態(tài)盡在您的掌控之中；

5、根據(jù)管徑不同，法蘭分為卡箍和折頁兩種密封方式，安裝拆卸簡便快捷。

該設(shè)備廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領(lǐng)域

技術(shù)參數(shù)：

1、額定功率：4KW

2、額定電壓：AC 220V, 50/60Hz

3、較高溫度：1700℃（1 hour）

4、持續(xù)工作溫度：≤1600℃

5、推薦升溫速率：1400℃以下≤10℃/min

              1400℃~1600℃≤5℃/min

6、爐管尺寸：剛玉管Φ60*750mm

7、加熱區(qū)長度：200mm

8、恒溫區(qū)長度：100mm

9、控溫方式：模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)，智能30段可編程控制，具有超溫和斷偶啟動緊急信號功能

10、加熱元件:硅鉬棒

11、標(biāo)準(zhǔn)配置 剛玉管1根，氧化鋁管堵4只，B型熱電偶1只，不銹鋼密封法蘭1套，硅膠密封圈2套，高溫手套1副，坩堝鉤1支

12、爐子尺寸：510*440*650mm

凈重：100KG