產(chǎn)品描述
硼化鋯(B2Zr)靶材 磁控濺射靶材 電子束鍍膜蒸發(fā)料
【參數(shù)說明】
支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會(huì)盡快為您報(bào)價(jià)��！
【產(chǎn)品介紹】
硼化鋯，英文名稱是Zirconium boride，CAS號是12045-64-6，分子式為B2Zr，分子量為112.846，灰色結(jié)晶或粉末。耐高溫，常溫和高溫下強(qiáng)度均很高。耐熱震性好，電阻小，高溫下舒緩反應(yīng)。主要用作復(fù)合材料，用于切削工具電氣和電子材料元件。
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中文名 |
硼化鋯 |
熔 點(diǎn) |
3200°C |
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化學(xué)式 |
B2Zr |
沸 點(diǎn) |
未確定 |
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分子量 |
112.846 |
密 度 |
6.085g/cm³ |
【關(guān)于我們】
服務(wù)項(xiàng)目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制�？蒲袉挝回浀礁犊�，質(zhì)量保證，售后無憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備
質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測→包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
注 ：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。
我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材，歡迎您的垂詢。
北京京邁研材料科技有限公司創(chuàng)建于2015年,是國內(nèi)有色金屬行業(yè)綜合性研究開發(fā)公司。?現(xiàn)有員工100余人。我公司光學(xué)鍍膜材料中心以國內(nèi)技術(shù)，多年來一直專業(yè)從事光學(xué)鍍膜材料及濺射靶材的研發(fā)與生產(chǎn)。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復(fù)合物、金屬及合金等，也可根據(jù)您的要求量身定做。通過嚴(yán)格控制生產(chǎn)、并持續(xù)改進(jìn)、穩(wěn)步發(fā)展，致力為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品。 公司現(xiàn)有靶材熱壓爐；真空蒸餾裝置，電解槽，單晶爐，區(qū)熔裝置，CVD（化學(xué)氣象沉積）裝置，PVD（物理氣象沉積）裝置，移動(dòng)式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備；提純工藝包括：真空蒸餾；精餾；區(qū)域熔煉；電解；化學(xué)氣象沉積；物理氣象沉積；熱擴(kuò)散；單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品，產(chǎn)品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學(xué)鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個(gè)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名太陽能、航空航天、生物、微電子、信息儲存、汽車、船舶、裝飾、工業(yè)鍍膜、新能源企業(yè)當(dāng)中。 北京京邁研材料科技有限公司幾年來已先后與國內(nèi)幾十家知名高校、中科院等研究院所建立了長期友好的合作關(guān)系，并與這些科研單位有密切的學(xué)術(shù)交流和技術(shù)合作項(xiàng)目，并遠(yuǎn)銷歐洲、美國、日本、韓國等，在鍍膜行業(yè)擁有良好的聲譽(yù)。