品名：鉍粒

純度：4N

規(guī)格：1-3mm

包裝：100g

用途：科研

適用設(shè)備：適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機(jī)器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng)，多靶濺射系統(tǒng)，離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設(shè)備。

應(yīng)用領(lǐng)域：生產(chǎn)及科研方面應(yīng)用，光學(xué)，微納加工，器件等行業(yè)，廣泛用于半導(dǎo)體芯片、太陽能光伏 、平面顯示、特種涂層等鍍膜產(chǎn)品。

靶材規(guī)格

材質(zhì)：鉍（Bi Target）。

純度：99.99%，99.999%，99.9999%。

晶粒度：45微米。

尺寸：Φ25,30,40,50.5,60,76.2,80,100,101.6mm，T:0.2-10mm等。

密度：9.80g/cm³。

表面粗糙度：Ra≤0.8um（濺射面），Ra≤6.4um（做金屬化）。

外觀：目視檢查無破損、劃傷、污跡、裂紋等在使用上有害的缺陷。