產(chǎn)品描述
bet-2000型比表面積分析儀
分析方法：
真空靜態(tài)法
測定范圍：
比表面積：下限優(yōu)于0.1m2/g，無已知上限
孔直徑：2-200nm
壓力測定：
范圍：0-120kpa
精度：±0.1% fs
液位控制系統(tǒng)：
自動用于不同溫度的冷卻劑
軟件控制系統(tǒng)：
internet遠程控制
液氮容器：
容積：1.5l
數(shù)量：1
保持時間：10小時
樣品管：
材料：玻璃
體積：2－10ml
真空泵：
抽速：30l/min
真空度：7x10-2pa (7x10-4torr)
計算機配置要求：
cpu：2g hz
ram：256m
硬盤：1gb以上自由空間
顯示器：1024x768crt
接口： usb
操作系統(tǒng)：win98/me/2k/xp
輸出報告：bet比表面積
尺寸及重量：d450 x w610 x h680 mm，~60 kg（主機）
電源：
主機：ac220v 100w
真空泵：ac220v 500w
bet-2000型比表面積分析儀特點
用于bet比表面積指標的分析；
全過程的微機程控，無需人為操作；
自動的吸附及解吸；
安全可靠的防氣路污染措施；
使用單獨氮氣吸附，無需氦氣，降低分析成本；
高精度的傳感器及24位的ad轉(zhuǎn)換器件；
并聯(lián)式氣路設(shè)計，實現(xiàn)樣品的同時和單獨分析；
液氮液面的軟件補嘗功能，無需液位控制；
po的自動測定功能；
全不銹鋼的真空內(nèi)氣路；
可靠的杜瓦瓶自動托盤；
軟件的終身免費升級服務(wù)；
分析方法：
真空靜態(tài)法
測定范圍：
比表面積：下限優(yōu)于0.1m2/g，無已知上限
孔直徑：2-200nm
壓力測定：
范圍：0-120kpa
精度：±0.1% fs
液位控制系統(tǒng)：
自動用于不同溫度的冷卻劑
軟件控制系統(tǒng)：
internet遠程控制
液氮容器：
容積：1.5l
數(shù)量：1
保持時間：10小時
樣品管：
材料：玻璃
體積：2－10ml
真空泵：
抽速：30l/min
真空度：7x10-2pa (7x10-4torr)
計算機配置要求：
cpu：2g hz
ram：256m
硬盤：1gb以上自由空間
顯示器：1024x768crt
接口： usb
操作系統(tǒng)：win98/me/2k/xp
輸出報告：bet比表面積
尺寸及重量：d450 x w610 x h680 mm，~60 kg（主機）
電源：
主機：ac220v 100w
真空泵：ac220v 500w
bet-2000型比表面積分析儀特點
用于bet比表面積指標的分析；
全過程的微機程控，無需人為操作；
自動的吸附及解吸；
安全可靠的防氣路污染措施；
使用單獨氮氣吸附，無需氦氣，降低分析成本；
高精度的傳感器及24位的ad轉(zhuǎn)換器件；
并聯(lián)式氣路設(shè)計，實現(xiàn)樣品的同時和單獨分析；
液氮液面的軟件補嘗功能，無需液位控制；
po的自動測定功能；
全不銹鋼的真空內(nèi)氣路；
可靠的杜瓦瓶自動托盤；
軟件的終身免費升級服務(wù)；
比表面及孔徑分布測試儀應(yīng)用領(lǐng)域： 催化劑，廣泛用于石化、化工、醫(yī)藥、食品、農(nóng)業(yè)、精細化工等領(lǐng)
域吸附劑，如活性炭、分子篩、活性氧化鋁等，廣泛用于環(huán)保領(lǐng)域；顏填料，無機顏料、碳酸鈣、氧化鋅
、氧化硅、礦物粉等；陶瓷材料原料，氧化鋁、氧化鋯、氧化釔、氮化硅、碳化硅等；炭黑、白炭黑、納
米碳酸鈣等用于橡塑材料的補強劑等；新型電池材料，如鈷酸鋰、錳酸鋰、石墨等電較材料；發(fā)光稀土粉
末材料； 磁性粉末材料，如四氧化三鐵、鐵氧體等；納米粉體材料，包括納米陶瓷材料、納米金屬材料
，納米銀粉、鐵粉、銅粉、鎢粉、鎳粉等； 其他，如超細纖維、多孔織物、復(fù)合材料、沉積物、懸浮物等；
3500型技術(shù)參數(shù)
1. 測量重復(fù)性誤差 ≤2%
2. 測量范圍
此表面測量范圍: 0.01㎡/g ≤ X㎡/g ≤ 3500㎡/g
3． 基線穩(wěn)定線
半小時基線漂移不大于0.1mv，噪聲不大于0.05mv。
4． 要求氣體純度
吸附質(zhì)——氮氣，純度99.99%以上。
載氣——氦氣，純度99.99%以上。
或氫氣，純度99.99%以上。(注意被測物不能與氫氣作用)
5． 儀器供電電源
交流220v±10%,電流頻率50赫茲，功率不大于200瓦。
6． 主機外形尺寸： 600Χ380Χ410 mm3 重量：約50KG。
7． 計算機配備系統(tǒng)：
處理器：奔騰二以上
內(nèi)存： 32MB以上
顯示器設(shè)備：高分辨率彩顯
Windows98以上操作系統(tǒng)
8． 采樣頻率： 100HZ
9． 較小峰寬： 0.1min
10． 較低峰高檢驗限 20uV