產(chǎn)品描述
北京中金研新材料科技有限公司坐落于中關(guān)村科技園，是業(yè)內(nèi)企業(yè)為發(fā)起人，整合眾多科研單位及高校的優(yōu)勢(shì)資源，吸收國(guó)內(nèi)外科學(xué)的管理經(jīng)驗(yàn)而成立。人才儲(chǔ)備豐富，資金力量雄厚，通過(guò)ISO9001-2008質(zhì)量管理體系和ISO14001環(huán)境管理體系認(rèn)證，具有自主進(jìn)出口權(quán)。
北京中金研新材料科技有限公司在各種金屬材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能合金材料及應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)方面，有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。以技術(shù)為基礎(chǔ)，我公司開發(fā)了多個(gè)系列的新材料，這些產(chǎn)品牌號(hào)約百余種。已在航空航天、、信息電子、真空鍍膜、磁控濺射、冶金、功能材料、生物、新能源等行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用。目擁有鍍膜材料、濺射靶材、金屬材料、高純合金等多條生產(chǎn)線，生產(chǎn)設(shè)備，工藝完善。
北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中關(guān)村科技園區(qū)的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，由業(yè)內(nèi)龍頭企業(yè)為發(fā)起人，整合了國(guó)內(nèi)科研院校的優(yōu)勢(shì)資源，吸收國(guó)內(nèi)外先進(jìn)科學(xué)的管理經(jīng)驗(yàn)而成立。人才儲(chǔ)備豐富，資金力量雄厚，通過(guò)ISO9001:2008質(zhì)量體系及ISO14001:2004環(huán)境管理體系認(rèn)證，具有自主進(jìn)出口權(quán)。
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牋?span style="font-family: PMingLiU;">北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)方面，有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。以堅(jiān)強(qiáng)的技術(shù)為基礎(chǔ)，我公司開發(fā)了多個(gè)系列的新材料，這些產(chǎn)品牌號(hào)約百余種。已在航空航天、***、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫(yī)藥、新能源等行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產(chǎn)線，生產(chǎn)設(shè)備先進(jìn)，工藝完善。
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目前，我們的客戶遍及美國(guó)．德國(guó)．日本．韓國(guó)．寶島．香港等十幾個(gè)國(guó)家和地區(qū)，包括國(guó)內(nèi)外科研***，上市公司等知名企事業(yè)在內(nèi)的六百余家單位。
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牋牋北京中金研新材料科技有限公司下設(shè)鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業(yè)部，熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠(chéng)信為本，科技為本的理念，致力打造成金屬新材料行業(yè)的領(lǐng)頭羊。
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磁控濺射靶材
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（可為電子與半導(dǎo)體，平面顯示行業(yè)，建筑與汽車玻璃行業(yè)，薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè)，磁存儲(chǔ)行業(yè)，工具行業(yè)，裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材）
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高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶材，Al靶材，鉻靶材，Cr靶材，銅靶材，Cu靶材，鎳靶材，Ni靶材，硅靶材，S靶材，鍺靶材，Ge靶材，鈮靶材，Nb靶材，鈦鈀材，Ti靶材，銦靶材，In靶材，銀靶材，Ag靶材，錫靶材，Sn靶材，石墨靶材，C靶材，鉭靶材，Ta靶材，鉬靶材，Mo靶材，金靶材，Au靶材，鉿靶材，Hf靶材，錳靶材，Mn靶材，鋯靶材，Zr靶材，鎂靶材，Mg靶材，鋅靶材，Zn靶材，鉛靶材，Pb靶材，銥靶材，Ir靶材，釔靶材，Y靶材，鈰靶材，Ce靶材，鑭靶材，La靶材，鐿靶材，Yb靶材，釓靶材，Gd靶材，鉑靶材，Pt靶材等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。
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高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶材、AZO靶材，IGZO靶材，氧化鎂靶材，MgO靶材、氧化釔靶材，Y2O3靶材，氧化鐵靶材，F(xiàn)e2O3靶材,氧化鎳靶材，Ni2O3靶材，氧化鉻靶材，Cr2O3靶材、氧化鋅靶材，ZnO靶材、硫化鋅靶材，ZnS靶材、硫化鎘靶材，CdS靶材，硫化鉬靶材，MoS2靶材，二氧化硅靶材，SiO2靶材、一氧化硅靶材，SiO靶材、二氧化鋯靶材，ZrO2靶材、五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材、二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材，二硼化鈦靶材，TiB2靶材，二硼化鋯靶材，ZrB2靶材，三氧化鎢靶材，WO3靶材，三氧化二鋁靶材，Al2O3靶材，五氧化二鉭靶材，Ta2O5靶材、氟化鎂靶材，MgF2靶材、硒化鋅靶材，ZnSe靶材、氮化鋁靶材，AlN靶材，氮化硅靶材，Si3N4靶材，氮化硼靶材，BN靶材，氮化鈦靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材，鈮酸鋰靶材、鈦酸鐠靶材、鈦酸鋇靶材、鈦酸鑭靶材等高密度陶瓷濺射靶材.
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備注：CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界較先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對(duì)密度大于95-99%�？梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ⻊�(wù)。
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高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶材，Ni-V靶材，鎳鉻合金靶材，Ni-Cr靶材，鈦鋁合金靶材，Ti-Al靶材，硅鋁合金靶材，Si-Al靶材，銅銦合金靶材，Cu-In靶材，銅鎵合金靶材，Cu-Ga靶材，銅銦鎵合金靶材，Cu-In?–Ga靶材，銅銦鎵硒靶材，Cu-In?–Ga-Se靶材，不銹鋼靶材，鋅鋁合金靶材，Zn-Al靶材，鎢鈦靶材，W-Ti靶材，鐵鈷靶材?/span>，F(xiàn)e-Co靶材，白銅靶材等高純合金濺射靶材。
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備注：CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對(duì)密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）�？梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ⻊�(wù)。
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